SALD-HC Series - 特色
High-Concentration Sample Measurement System
使用雷射繞射/散射達成高濃度測量
- 此系統可測量高濃度樣品的粒徑分佈，此類樣品到目前為止，還無法使用先前的雷射繞射/散射方法測量。
- 您可以預期對顆粒分佈會受到稀釋改變的均勻樣品進行更準確的測量，因為樣品可在原本狀態下進行測量，或者只需要極低程度的稀釋。
- 市售洗手乳、洗面乳和護髮產品，幾乎不需要任何預處理就可測量。
不需要複雜參數設定
- 和使用超音波的方法不同，此方法不需要校正。
- 不需要設定和測量目標屬性相關的複雜參數。
- 折射率是唯一需要設定的項目。
可使用極少量樣品進行測量。
- 可使用極少量樣品進行測量
- 可測量貴重樣品，只會極少量損耗。
- 測量資料的範例
油中水型乳液之粒徑分佈
罐裝咖啡兩種不同儲存方式之粒徑分佈
備註
- 高濃度樣品測量系統的測量範圍限制，大於標準的濕式測量 (使用流通槽或批次容槽時)。基本上，範圍較窄。
- 大致上可對最高約 20 wt% 的濃度進行測量。不過取決於樣品物質、粒徑和粒徑分佈，有些情況下可能難以測量約 10 wt% 的濃度。
- 具有寬分佈寬度的樣品，相較於具有窄分佈寬度的樣品，較容易受到多重散射影響，且某些情況下可能無法取得準確的測量。
* 外觀和規格內容如有更動，恕不另行通知。
以雷射繞射/散射方法進行高濃度樣品測量的原理
- 雷射繞射/散射方法是用於測量粒徑分佈的主要方法。
- 此方法的基本做法，與使用一般流通槽和批次容槽的測量完全相同。
- 樣品會固定在兩片玻璃薄板 (玻片) 之間，且鐳射光照射到樣品上，測量其粒徑分佈。
測量原理
若使用標準流通槽或批次容槽測量高濃度樣品，長光徑會導致多重散射，且令其無法取得準確測量。
可透過在兩塊玻片之間固定要測量的高濃度樣品顆粒以進行測量。這可大幅縮短光徑長度，避免多重散射的負面影響，並可達成準確測量。
縮短光徑以避免多重散射
以標準流通槽或批次容槽測量
樣品固定在兩片玻片之間
偵測側邊散射光
還有，放置樣品令其與光軸成對角，可以偵測側邊散射光。
套用粒徑計算到這些側邊以及前後散射光，可測量次微米範圍內的高濃度樣品。(側邊和後方感應器無法用於 SALD-300V 和 SALD-200V ER。)
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