3 nm (30 kV 加速電壓) 的二次電子影像解析度,是 EPMA 系統中的最高等級。這是分析條件下終極的二次電子影像解析度。
EPMA-8050G
EPMA-8050G 電子微探儀
本儀器配備了尖端的 FE 電子光學系統,可在所有射束電流條件下 (從 SEM 觀察條件到1 μA 等級) 提供前所未有的空間解析度。與島津透過公司傳統長期研發的高效能 X 光光譜儀整合,可達到極致的進階分析效能。
特色
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此系統可達到最大 3.0 A 的射束電流 (30 kV 加速電壓)。在整個射束電流範圍內,不需要更換物鏡孔徑。
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52.5° X 光輸出角度本身獨具一格。4 吋 Rowland 環半徑同時提供高靈敏度和高解析度。系統可容納最多五組相同類型的 X 光光譜儀。
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進階操作性確保只需滑鼠就可進行所有操作。使用者介面的設計容易了解。簡易模式分析可自動化包含產生報告在內的全部流程。
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FE 電子槍採用較 SEM 一般使用款式之尖端直徑更大的高輸出肖特基發射極 (Schottky emitter)。可取得對高靈敏度分析不可或缺的穩定明亮電子束。